Pattern Resin

Ρητίνη μοντελαρίσματος χαμηλής διαστολής για την κατασκευή τηλεσκοπικών και/ή κωνικών στεφανών, συνδέσμων ακριβείας, υπερώιων ναρθήκων, γεφυρών τύπου Maryland και κολοβωμάτων για εμφυτεύματα.

Ρητίνη μοντελαρίσματος με ελάχιστη συστολή πολυμερισμού. Καταξιωμένη από χρόνια για το μεγάλο εύρος εφαρμογών κλινικά και εργαστηριακά. Εκτός από τις κύριες εφαρμογές, η μοναδική αυτή ρητίνη είναι ιδανική για πολλές καθημερινές εργασίες που απαιτούν ακρίβεια κατασκευής.

Ενδείξεις:

Εκτός από όλες τις συμβατικές ενδείξεις που εφαρμόζονται οι ρητίνες μοντελαρίσματος, η GC Pattern Resin LS αποδίδει καλύτερα αποτελέσματα στις ακόλουθες εφαρμογές:

• Ενδορριζική Αποτύπωση
• Εφαρμογή συνδέσμων ακριβείας
• Κωνικές και τηλεσκοπικές στεφάνες
• Εκτεταμένες προσθετικές εργασίες επί εμφυτευμάτων
• Τεχνικές μεταφοράς και αποτύπωσης εμφυτευμάτων
• Τεχνικές κατασκευής στεφανών και γεφυρών
• Ένθετα και επένθετα
• Μερικές οδοντοστοιχίες
• Τεχνικές Ηλεκτροφόρησης
• Ειδικά σχεδιασμένη για την τεχνική τοποθέτησης με πινέλο.
• Oικονομική λύση

Χαρακτηριστικά και πλεονεκτήματα:

• Ειδικά σχεδιασμένη για την τεχνική του πινέλου
• Ελάχιστη συστολή δίνει υψηλής ποιότητας μοντελάρισμα και οριακή εφαρμογή των αποκαταστάσεων
• Άριστος χειρισμός για ελεγχόμενο κτίσιμο και ικανοποιητική διαμόρφωση του υλικού
• Υψηλή σκληρότητα και αντοχή χωρίς καμία παραμόρφωση, ακόμα και όταν τοποθετείται σε λεπτά στρώματα
• Καίγεται χωρίς υπολείμματα, αποδίδοντας ομοιόμορφες και λείες περιοχές
• Το υλικό μπορεί να τοποθετηθεί απευθείας πάνω στο γύψινο κολόβωμα εφόσον έχει προηγηθεί η χρήση διαχωριστικού.
• Φυσικές ιδιότητες
• Χρόνος εργασίας (23ο C): 2’-3’
• Χρόνος πολυμερισμού(23ο C): 4’
• Αντοχή στην κάμψη (37ο C, μετά από 10’): 63MPa
• Συστολή πολυμερισμού μετά από 30’: 0,36%
• Συστολή πολυμερισμού μετά από 24 ώρες: 0,37%